di Margherita Furlan
La Cina sta esplorando nuove strade per aggirare le restrizioni sulle macchine litografiche utilizzate per la produzione di microchip. Lo scorso marzo i Paesi Bassi, a seguito di un accordo con Stati Uniti e Giappone, hanno annunciato misure congiunte per vietare alle aziende locali di esportare in Cina strumenti avanzati per produrre chip. Ragion per cui la Repubblica popolare sta puntando all’autosufficienza: un team della Tsinghua University è impegnato in un progetto all’avanguardia per la costruzione di un enorme stabilimento in grado di ospitare più macchine che utilizzano la litografia ultravioletta estrema, il sistema attualmente più avanzato, attorno a un acceleratore di particelle con una circonferenza prevista di 100-150 metri. Generando un fascio di luce continuo con angolo di diffusione ridotto, può garantire la produzione di chip avanzati (a 2 nanometri) ad alto volume e a basso costo. Così, con un nuovo meccanismo di luminescenza, Pechino punta a divenire leader nel settore dei chip avanzati. Il sito designato è la Xiong’an New Area, un’area a 100 chilometri a sud della capitale che Xi Jinping punta a rendere una “città internazionale di prima classe”.
